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当前国产光刻机的发展借助政策优势，发展到了一定的阶段，其中最正宗的光刻机生产商是上海微电子、中科院长春光机所、华为三家公司。其中，上海微电子（SMEE）在2016年完成了90nm光刻机出货，目前最先进的设备为SSA600/20步进扫描投影光刻机，并在2017年承担“02专项”浸没光刻机关键技术预研项目并通过了验收，公司当前正推进ArFi DUV光刻机的研发；中科院长春光机所2017年承担“02专项”极紫外光刻关键技术研究通过验证。

据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。据传此代光刻机类似于阿斯麦的DUV2000i，但指标要比2000i高一些，通过工艺优化可以做到7nm集成电路制程，目前已经跑线一年，从定型来看，也预期于年底会批量生产。

受此消息影响，今日A股光刻机产业链零部件上市公司也迎来了市场共振，股价大涨，其中茂莱光学涨幅超10%，福晶科技盘中上涨超4%，富创精密上涨3.5%。

据产业人士透露，光刻机“卡脖子”的难点主要体现在两个地方：一是体系小，功率高又稳定的光源；二是需要高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线。此前国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，该项专利解决了EUV光刻过程中的干扰问题。

此外，目前光刻机曝光系统全球只有蔡司和尼康能够完成，但在部分光刻机核心系统方面，国内以国科精密、华卓精科为代表的新锐力量也完成了部分项目的论证。国科精密作为国家科技重大专项02专项支持的唯一高端光学技术研发单位，正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作；华卓精科是上海微电子唯一的光刻机工件台供应商，作为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司，华卓精科成功推出了第一台满足65nm光刻机需求的双工件台样机，打破了ASML公司在工件台上的技术垄断，目前华卓精科IPO也已经成功过会。

除国科精密、华卓精科之外，以下光刻机零部件上市公司也值得重点关注：

1、茂莱光学（688502，DUV光学透镜）：公司专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的研发、设计、制造及销售，主要产品包括透镜、棱镜和平片（多光谱滤光片、荧光滤光片、太空反射镜等）。在半导体检测及光刻机领域，公司研发生产的半导体检测设备光学系统已成功应用于国际龙头企业KLA、Camtek的半导体检测设备中；公司研发的精密光学器件已应用于国产光刻机中，为光刻机国产化提供了重要支撑，助力我国国产光刻机的技术发展，上海微电子是公司光刻机领域最主要的客户。

2、炬光科技（688167，ASML核心供应商）：公司可提供光刻机曝光系统里核心元器件——光场匀化器，供应给ASML公司。同时与国内在这一领域的研发单位有广泛合作，亦逐步向日本市场进行渗透。2022年起得益于半导体市场DUV光刻市场需求强烈，终端客户产能扩张迅速，应客户要求公司已于2022年在德国完成产能扩充，并与ASML公司也有意向进一步往光学模组等产品品类展开合作。

3、腾景科技（688195，配套高功率半导体激光器厂商）：公司主要从事各类精密光学元组件、光纤器件研发、生产和销售。据2022年报披露，公司多波段合分束器已完成产品开发，成功进入半导体微电子设备厂供应链。在光纤激光领域，公司与行业主要的光纤激光器厂商建立了合作关系，主要客户包括R客户、nLIGHT等，其中nLIGHT是世界领先的高功率半导体激光器厂商，R客户为全球知名的光纤激光器企业。

4、美埃科技（688376，配套上海微电子，电子半导体洁净室设备龙头）：公司为上海微电子提供的EFU（超薄型设备端自带风机过滤机组）及ULPA（超高效过滤器）等产品可提供光刻机机台内国际最高洁净等级标准（ISO 1级）洁净环境。